| 电路板油墨 | 光刻胶 | 特种油墨 |
1.特别说明:
具体型号说明书及相关检测报告请前往下载中心下载。
2.应用领域:
平板显示领域的具体应用包括：TN/STN-LCD的ITO电极制作；TP的ITO电极、Mo/Al/Mo Sensor制作；TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等。
3. 技术参数:
平板显示用光刻胶主要技术参数：
平板显示用光刻胶系列主要包括：RD-PFR/PFS、RD-PTL500、RD-PTH800等系列，不同系列光刻胶的主要技术参数如下：
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序号 |
产品序列 |
主要参数 |
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1 |
RD-PFR/PFS系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<500；膜厚：1.2~2.2um；分辨率：2um(g+h+i曝光)
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2 |
RD-PTL500系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<300；膜厚：1.4~2.2um分辨率：1.5um(g+h+i曝光)
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3 |
RD-PTH800系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：1.4~2.2um；分辨率：1.5um(g+h+i曝光)
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1.特别说明:
具体型号说明书及相关检测报告请前往下载中心下载。
2.应用领域:
集成电路领域的具体应用包括：集成电路芯片制作（涉及金属层、钝化层、离子注入层的光刻）；集成电路先进封装等。
3. 技术参数:
集成电路用光刻胶主要技术参数：
集成电路用光刻胶系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列，不同系列光刻胶的主要技术参数如下：
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序号 |
产品序列 |
主要参数 |
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1 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
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2 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
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1.特别说明:
具体型号说明书及相关检测报告请前往下载中心下载。
2.应用领域:
半导体照明领域的具体应用包括：图案化蓝宝石衬底（PSS）制作；LED芯片制作等。
3. 技术参数:
半导体照明用光刻胶主要技术参数：
半导体照明用光刻胶系列主要包括：RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列，不同系列光刻胶的主要技术参数如下：
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序号 |
产品序列 |
主要参数 |
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1 |
RD-2000系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<300；膜厚：1.0~3.5um；分辨率：0.8um(g-line)
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2 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
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3 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
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4 |
RD-NL700系列 |
水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<500；膜厚：1.8~4.5um；倒梯形角度：45~80°；分辨率：1um(g+h+i曝光)
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